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平面拋光機運動學理論
2014-07-09 13:28:06 來源：
目前市場上針對小工件進行平面拋光的機器很多，并且正在逐步增加。但是大型平板的拋光機還停留在起始階段。 建立平面拋光機的運動學模型，從拋光軌跡、拋光速度方面研究拋光的運動特性及其對拋光均勻性的影響，得出了組合拋光的參數匹配關系。
對拋光的速度特性研究表明:在不同時刻的拋光盤上各點的速度是變化的，單周期內速度曲線呈包絡線變化，包絡線形狀與平面拋光機橫梁擺動速度曲線有關;拋光時，越靠近拋光盤邊緣的點速度越大，拋光能力越強。
對拋光的運動特性研究表明:拋光盤的運動具有周期性，拋光軌跡為類正弦，整個平面內磨削均勻區域呈帶狀分布，平面中間區域出現明顯的磨削量峰值，沿中線到平面兩側邊線磨削量遞減，并可能在兩側位置形成暗帶。
以Preston方程為基礎，引入了拋光均勻性的數學評價參數，建立了平面拋光機拋光均勻性分析的計算機仿真模型，確定了仿真參數，并對單拋光盤和雙拋光盤組合拋光兩種情況下拋光量的分布進行了仿真，仿真結果表明該模型能夠較好的分析拋光平面拋光量的分布情況與拋光的均勻程度。基于Preston方程，得出了影響拋光質量的關鍵因素。研究表明:拋光均勻性主要受拋光盤運動軌跡影響，拋光面相對速度對拋光量分布的影響不大。
以墻地磚拋光為研究對象，結合仿真與試驗研究了拋光工藝參數對拋光均勻性以及拋光質量的影響，為拋光參數優化提供了有效方法。研究表明:拋光質量取決于前道工序的拋光質量和本道工序拋光的均勻性;拋光壓力增加拋光效率和拋光質量均會增加，但當其增加到一定值時會加重拋光劃痕甚至會將墻地磚壓至破碎，拋光質量下降;拋光盤轉速主要影響拋光效率，在充分拋光的條件下對拋光的均勻性影響不大;墻地磚的輸送速度、橫梁擺動周期以及拋光間距的合理匹配影響整個平面的拋光均勻性，橫梁的擺動速度曲線對于改善加工面兩側的拋光質量有決定性作用，通過比較分析采用延時梯形速度曲線拋光效果*好。
拋光運動的特性和拋光參數對工件表面質量影響很大，這些參數直接影響著拋光軌跡和運動的均勻性，所以通過剛剛的計算和實驗，精確的掌握了這些拋光參數是研究平面拋光機的一大進步與飛躍。也為提高拋光效率，提高工件表面質量提高了技術支持。
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